场发射扫描电镜
该设备是肖特基场发射(SFE)源该,具有超高分辨率,能做各种固态样品表面形貌的二次电子像、背散射电子成像、In-lens 镜筒内二次电子探头成像的观察及图像处理。
场发射扫描电镜采用肖特基场发射(SFE)源,内置电子束推进器(beam booster)和 In-lens 二次电子探测器,最小分辨率1.2 nm纳米,可以在低电压工作条件下获得良好的表面信息。
该设备可以观察样品表面形貌和成分衬度,选用低加速电压可以减少或消除样品的荷电效应,可直接观察未经导电的非导体样品,并且可以避免样品制备过程中带来的各种假象或失真,减小电子束辐照损伤。对于在常规加速电压下观察半导体和绝缘体材料,这类样品热导率低,如果未经镀膜 处理或者导电处理不当,电子束会引起样品热漂移,严重时造成表面起泡、凹陷、 蚀刻,甚至破裂。另外,高能电子束会分解样品室的残留碳氢化合物,使碳沉积在样品表面,形成扫描范围的黑区,这是样品污染,在低加速电压下观察,这个 污染黑区更明显。选用低加速电压操作,可减小样品的辐照损伤和污染
样品尺寸小于300mm×200mm;不可检测细胞类活性物质
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